Intel avasi uudistetun, massatuotantoon suunnitellun puolijohteiden tuotantolaitoksen Chandlerissa, Arizonassa. Tehdas käyttää 65 nanometrin tuotantoprosessia ja 300 millimetrin piikiekkokokoa.
Fab 12 -niminen tehdas on Intelin toinen volyymituotantoon tarkoitettu laitos, joka käyttää alan suurinta piikiekkokokoa, 300:aa millimetriä.
Tarkoituksena on alentaa prosessoreiden tuotantokustannuksia.
Fab 12:n muuntaminen alkoi vuonna 2004 ja maksoi noin kaksi miljardia dollaria. Aikaa kului puolitoista vuotta. Fab 12 on Intelin viides, 300 mm:n piikiekkotehdas. Yhtiöllä on laajin 300 mm:n kiekkoja käyttävä tehdasverkosto. Muut tuotantolaitokset ovat Fab 11X Uudessa Meksikossa, D1D ja D1C Oregonissa sekä Fab 24 Irlannissa.
Arizonan investointi on kuudes sarjassa, jossa yhtiö on sijoittanut tuotantolaitoksiin eri puolilla Yhdysvaltoja. Yhteensä viime ja tänä vuonna Intel on investoinut näihin tehtaisiin yli kuusi miljardia dollaria ja lisännyt työpaikkoja 2 000:lla. Luku ei sisällä rakennustyöpaikkoja.