Intel on ilmoittanut avaavansa uuden, 2 miljardin dollarin arvoisen laajennuksen tuotantolaitokseensa, joka sijaitsee Yhdysvaltojen Uudessa Meksikossa.
Rio Ranchossa sijaitseva Fab 11X-niminen laitos keskittyy puolijohdeteollisuuden edistyksellisimpään tuotantoteknologiaan, eli se valmistaa prosessoreita 300 millimetrin piikiekoista 0,13 mikrometrin viivaleveyden prosessilla.
Ensi vuonna tuotantolaitos siirtyy käyttämään 90 nanometrin prosessia, mikä edustaa alan kärkiteknologiaa.
300 millimetrin piikiekot yhdessä 90 nanometrin tuotantoteknologian kanssa vähentävät valmistuskustannuksia ja tehostavat tuotantoa.
Fab 11X vaatii Intelin mukaan myös vähemmän vettä ja energiaa sekä tuottaa vähemmän päästöjä sirua kohti kuin muut tuotantolaitokset.
