IBM, Sony ja Toshiba ovat kuluneen viiden vuoden aikana kehittäneet Cell-prosessoria ja sen valmistusteknologiaa 90 ja 65 nanometrin viivaleveydellä. Yhtiöt haluavat jatkaa yhteistyötään ja tavoittelevat jopa 32 nanometrin mittakaavaa.
Yhtiöt jatkavat Cell-prosessorin kehityksen viitoittamalla tiellä, ja tutkivat yhdessä seuraavien viiden vuoden ajan mahdollisuuksia kutistaa piirien valmistustekniikassa mitta-asteikkona käytettävä viivaleveys 32 nanometriin tai jopa sen alle.
Kolmikko syventyy valmistusmateriaaleja ja -prosesseja sekä puolijohteiden yleistä rakennetta koskevaan perustutkimukseen.
Tavoitteena on nopeuttaa sulautettujen järjestelmien sekä kuluttajaelektroniikan tarpeisiin kehitettävien piirien suunnittelu- ja tuotteistusaikoja. Viivaleveyksien kutistamisessa tavoite on asetettu kaksivaiheiseksi, ensin 45 nanometrin ja sitten 32 nanometrin luokkaan.